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    考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN 薄膜

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    品牌: KRI
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    發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
    所在地: 上海
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    最后更新: 2023-05-31 10:12
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    伯東企業(yè)(上海)有限公司
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    • 品牌:
      KRI
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    合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素,能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。

     

    北京某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室在對硬韌  ZrAlN 薄膜及薄膜力學(xué)性能研究中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220  輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.

     

    伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

    離子源型號

    RFICP220

    Discharge

    RFICP 射頻

    離子束流

    >800 mA

    離子動能

    100-1200 V

    柵極直徑

    20 cm Φ

    離子束

    聚焦,   平行,   散射

    流量

    10-40 sccm

    通氣

    Ar,   Kr,   Xe,   O2,   N2,   H2,   其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    30 cm

    直徑

    41 cm

    中和器

    LFN 2000

    * 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

    KRI 射頻離子源 RFICP 220

    試驗(yàn)中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220  輔助磁控濺射沉積的方法獲得均勻致密、大面積的 ZrAlN 薄膜, 更好的對 ZrAlN 薄膜進(jìn)行研究.

     

    KRI 離子源的**特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實(shí)現(xiàn)的.

     

    因此,  該研究項(xiàng)目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.

     

    伯東是德國 Pfeiffer 真空泵,  檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品**的指定代理商.

     

    若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論,   請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

    上海伯東: 羅**生                               臺灣伯東: 王女士
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